Война технологий. Китай наносит удар по лидерству Запада в самом "тонком" месте - микросхемах для ИИ - 30.07.2026 Украина.ру
Регистрация пройдена успешно!
Пожалуйста, перейдите по ссылке из письма, отправленного на

Война технологий. Китай наносит удар по лидерству Запада в самом "тонком" месте - микросхемах для ИИ

© REUTERS / Intel Corporation
  - РИА Новости, 1920, 30.07.2026
Читать в
ДзенTelegram
На днях в Китае произошло значимое событие, которое по своим долгосрочным последствиям способно существенно ускорить утрату Западом остатков своего технологического лидерства. Китайская государственная компания начала серийное производство станков собственной разработки для производства микросхем (т.н. литографов) по иммерсионной технологии.
Эти машины, поначалу, возможно будут уступать моделям ASML по производительности, но их усовершенствование - вопрос времени. Главное в ином – это решение поможет Пекину достичь самообеспеченности в области производства микросхем (МС), что является главным приоритетом, поскольку Китай сталкивается с ограничениями в использовании передовых зарубежных технологий.
В итоге Китай обеспечит себе почти полную технологическую независимость от Запада на ключевом направлении научно-технического прогресса, определяющим ныне успешное развитие всей экономики и обороноспособности государства.
Первые поставки станков китайским компаниям запланированы уже на этот год. Среди получателей называются китайские компании СМИК, "Хуа Хонг Семикондуктор" и производитель памяти "Чансин мэмори текнолоджис".
Суть иммерсионной технологии в том, что, упрощённо говоря, в оптической системе литографа одну из линз заменяют слоем жидкости с более высоким показателем преломления, чем у воздуха. Чаще всего используют высокоочищенную воду. Это позволяет существенно повысить способность оптики собирать и фокусировать свет, — и тем самым повысить разрешающую способность установки.
В результате становится возможным создавать более мелкие элементы на кремниевой пластине, например, уменьшить размеры транзисторов в интегральной микросхеме (МС) и, соответственно, увеличить их численность, сократив расстояние между ними. В итоге, выше быстродействие процессора при меньшем энергопотреблении.
В литографах, которые будет самостоятельно производить Китай, применяется лазер, излучающий свет с длиной волны 193 нм и эту технологию называют глубоким ультрафиолетом (ГУФ).
Обычный литограф на глубоком ультрафиолете может формировать на микросхеме элементы размером с 60-50 нм, но тот же литограф с применением иммерсивной технологии позволяет формировать элементы размером около 28 нм за один ход засветки. А эти же литографы с помощью многократной засветки могут получать МС по более тонким техпроцессам — размером примерно до 7 нм, что уже достаточно для их использования под программы искусственного интеллекта (ИИ).
Иммерсионная литография стала основной технологией миниатюризации элементов в МС до изобретения технологии экстремального ультрафиолета (ЭУФ) с длинной волны порядка 14 нм, и соответствующего оборудования.
Эта технология позволяет наносить на кремниевую пластину ещё меньшие элементы – размером от 5 нм и меньше за один приём засветки. Этот способ даёт возможность производить специализированные процессоры и схемы памяти, лучше подходящие для устройств под программы искусственного интеллекта.
Кроме голландской АСМЛ, которая одно время была единственным производителем иммерсионных литографов, сейчас их серийно производят также японские "Никон" и "Кэнон", но в существенно меньших количествах. А литографы с ЭУФ технологией производства МС пока может производить только голландская АСМЛ.
Недостаток технологии иммерсивной литографии с многократной засветкой в том, что это увеличивает количество ошибок при совмещении слоёв, повышает количество брака в готовой продукции и её стоимость. Но в случае с Китаем, когда в условиях западных технологических ограничений стране надо просто отстоять право на развитие, освоение данной базовой технологии в полупроводниковой отрасли является вопросом национальной безопасности и поэтому здесь цена не имеет особого значения.
Полупроводниковая отрасль Китая попала под санкции США ещё в 2019 году, когда тайваньская ТСМК прекратила сотрудничество с "Хуавэй" по поставкам процессоров из-за американских ограничений, а голландская АСМЛ по этой же причине отказалась продавать Китаю литографы, производящие МС по технологии ЭУФ.
Со временем санкции стали применяться ко всем китайским компаниям, производящим МС. В 2024 году компании ASML США запретили ремонтировать и обслуживать уже поставленное китайским компаниям оборудование.
В последние годы и, особенно, при администрации президента США Байдена США усилили контроль над соблюдением т.н. "Вассенаарских договоренностей". Они предусматривают контроль над технологиями в других странах, частью которого являлся ввод ограничений и санкций в отношении высокотехнологичных отраслей Китая.
Одновременно США оказывали давление на своих союзников, чтобы те вступили в т.н., "альянс микросхем", куда Вашингтон завлекал Японию, Южную Корею и Тайвань с целью вытеснить китайских производителей полупроводниковых компонентов с рынка этих стран, а со временем – и из мировых цепочек поставок.
Сейчас в конгрессе США рассматривается проект закона, который ставит целью полностью запретить голландской АСМЛ любое сотрудничество с китайскими производителями полупроводниковых компонентов – СМИК, "Хуа Хонг" и CXMT. Американцы держат большую часть патентов на компоненты литографов, выпускаемых АСМЛ, и в полной степени используют свои права для подобных запретов.
Как видно, Китай проблему американских ограничений и санкций в принципе решил. Большая часть компонентов в установках китайского производства, хотя некоторые важные детали пока ещё поставляются из Японии. Но, учитывая наличие в Китае собственных инженерных школ в этой отрасли, развитую инфраструктуру НИОКР и достаточное финансирование, их замена – вопрос недалёкого времени.
Второй важный момент – в порядка 75% современных электронных устройств - смартфонах, планшетах, автомобилях, компьютерах, в космической и бытовой технике - востребованы именно микросхемы, созданные на литографах по технологии ГУФ.
Поэтому, прорыв в производстве МС по технологии ГУФ означает, что Китай самостоятельно может закрыть все свои критически важные потребности.
Среди кратковременных последствий китайского прорыва – падение в цене акций компаний, связанных с мировой цепочкой поставок оборудования для производства микросхем - от Европы и США до Японии и Южной Кореи. Акции голландского гиганта в области литографии - АСМЛ после публикации новости о китайском прорыве в понедельник, 27 июля, "просели" примерно на 7%.
К долгосрочным последствиям можно отнести весьма вероятное сокращение импорта голландских и японских производителей литографов и сопутствующего оборудования в Китай (из тех, которые американцы ещё не запретили продавать) по мере расширения собственно китайского производства. После неизбежного выхода китайских производителей на мировой рынок можно прогнозировать определённую потерю доходов традиционных производителей в пользу китайских компаний.
Конечно, это произойдёт не скоро. По расчётам западных отраслевых аналитиков коммерческое внедрение иммерсионной литографии по технологии ГУФ в Китае ожидается в середине 2030-х годов. При этом порядка 98% рынка иммерсионной литографии будет к этому времени приходиться на АСМЛ.
Но в данном случае важно то, что процесс ликвидации западной монополии на подобного рода сложнейшее оборудование, доступ к которому Запад попытался сделать оружием в борьбе за сохранение своей мировой гегемонии – вопрос времени. И не только Китай, но и Россия также участвует в сокрушении этой западной монополии, поскольку у нас в стране есть конкретный успех в создании аналогичного литографа по технологии ГУФ.
Китайские эксперты обращают внимание на очевидное: говоря о "честной конкуренции" Запад всё больше "полагается на административную власть, промышленное принуждение и клеветнические кампании в СМИ, чтобы вводить все более жёсткие ограничения на ключевые технологические секторы Китая, стремясь удержать Китай запертым на нижнем конце производственной цепочки".
В Китае считают, что его обширная промышленная база, растущие инновационные возможности и государственные усилия делают прорыв в ключевых технологиях неизбежным, а барьеры, построенные на экспортном контроле и технологических монополиях, не помешают укреплению позиций в области науки и технологий.
О других аспектах этого противостояния - в статье "Искусственный интеллект как поле конкуренции американской и китайской политической модели"
Подписывайся на
ВКонтактеОдноклассникиTelegramДзенRutube
 
 
Лента новостей
0
Сначала новыеСначала старые
loader
Онлайн
Заголовок открываемого материала
Чтобы участвовать в дискуссии,
авторизуйтесь или зарегистрируйтесь
loader
Обсуждения
Заголовок открываемого материала